派瑞林（PARYLENE）真空鍍膜的目的是通過物理或化學的方法在目標表面涂覆透明的電解質(zhì)膜或金屬膜，以改變目標表面的反射和透射特性。涂覆方式有真空鍍膜和光學鍍膜，但很多用戶不知道兩者的區(qū)別。以下，就有百騰小編為您簡單介紹：派瑞林鍍膜和光學鍍膜有什么區(qū)別？

一、派瑞林（PARYLENE）真空鍍膜和光學鍍膜概念的區(qū)別

1.派瑞林真空鍍膜是一種在高真空下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍膜件(金屬、半導體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結(jié)形成薄膜的方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2.光學鍍膜是指在光學零件表面涂覆一層(或多層)金屬(或電介質(zhì))薄膜的工藝過程。光學零件表面鍍膜的目的是為了滿足減少或增加光反射、分束、分色、濾光和偏振的要求。常用的涂膜方法有真空涂膜(物理涂膜之一)和化學涂膜。

第二、派瑞林（PARYLENE）真空鍍膜和光學鍍膜技術(shù)原則的不同

派瑞林（PARYLENE）真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供了一種新的薄膜制備工藝。簡而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，從而可以沉積在被涂覆的物體(稱為基底、襯底或基體)上

光學鍍膜技術(shù)常用的方法是真空濺射鍍膜玻璃基片，一般用來控制基片對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損耗，提高成像質(zhì)量，涂覆一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為減反射膜或減反射膜。

隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對薄膜的反射率和透射率有了不同的要求，這促進了多層高反射薄膜和寬帶抗反射薄膜的發(fā)展。對于各種應(yīng)用，高反射膜用于制造偏振反射膜、分色膜、發(fā)光膜和干涉濾光片等。光學零件表面鍍膜后，光在膜層上多次反射透射，形成多光束干涉。通過控制薄膜層的折射率和厚度，可以獲得不同的強度分布，這就是干涉涂層。

第三、派瑞林真空鍍膜和光學鍍膜方法和材料的區(qū)別

1、派瑞林真空鍍膜材料的方法:

(1)真空蒸發(fā):清潔待涂覆的基材，并將其放入涂覆室中。抽空后，將薄膜加熱到高溫，使蒸汽達到13.3帕左右，使蒸汽分子飛向襯底表面，凝結(jié)成薄膜。

(2)陰極濺射鍍膜:將待鍍膜基片對著陰極放置，向真空室通入惰性氣體(如氬氣)，保持壓力在1.33~13.3帕左右，然后將陰極與2000伏DC電源連接，然后激發(fā)輝光放電。帶正電荷的氬離子撞擊陰極發(fā)射原子，濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過選定的金屬化合物或有機化合物的熱分解獲得沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:本質(zhì)上，離子鍍是真空蒸發(fā)和陰極濺射的有機結(jié)合，兼具兩者的工藝特點。

第四、膜厚的差異

派瑞林真空鍍膜中金屬材料電鍍的薄膜厚度一般在3-5微米左右。光學鍍膜的膜厚測試可以通過在鍍膜機中部頂部安裝膜厚測試儀來完成。早期采用光控試驗。現(xiàn)在一般用晶振測試鍍層厚度。不同的膜有不同的厚度。

綜上所述，派瑞林真空鍍膜和光學鍍膜的區(qū)別介紹，希望對大家有所幫助。派瑞林真空鍍膜的過程很復雜，只是因為需要很高的真空度。

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